微影
在EUV光罩中，埋在多層膜內部的缺陷之所以成為問題，下列何者為正確的理由？
- A因為光罩會變重
- B因為反射光的相位與強度會紊亂，被轉印成為晶圓上圖案的缺陷
- C因為光罩的顏色會改變
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正確答案：B. 因為反射光的相位與強度會紊亂，被轉印成為晶圓上圖案的缺陷
EUV光罩的多層膜中或其下方若有數nm的凹凸或異物，其上方堆疊的數十層膜會跟著紊亂，使反射光的相位與強度改變。即使只是數nm高度的紊亂，也會被轉印到晶圓上而成為缺陷。由於很難從表面發現，因此開發出使用EUV光的專用檢測設備（光化性檢測），也會採用將吸收體圖案位移配置以避開缺陷位置的方法。