什麼是High-NA EUV(高數值孔徑EUV)
將投影光學系統的數值孔徑(NA)由傳統EUV的0.33提高到0.55，以提升解析度的次世代EUV曝光設備。
日文名稱: High-NA EUV
這個名詞所屬的領域: 微影
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化學放大型光阻 正型光阻 光阻 光罩(Reticle) 光罩護膜 多重圖案化 抗反射底層膜(BARC) 奈米壓印微影 相位移光罩 浸潤式微影
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