目前的曝光機（掃描機）將光罩圖案投影到晶圓上時，一般採用的縮小倍率為下列何者？

正確答案：B. 1/4

目前的曝光機一般是將光罩圖案縮小為1/4後投影到晶圓上。光罩上的圖案只需是晶圓上的4倍大，因此光罩容易製作，光罩上微小的缺陷或尺寸誤差也會縮小為1/4，影響較小。光罩的標準為6英吋見方（152 mm）的石英板，其中可容納4倍大小的26×33 mm曝光區。High-NA EUV則依方向組合使用1/4與1/8的縮小倍率。