作為EUV光罩反射多層膜所使用的材料組合，下列何者正確？

正確答案：C. 鉬與矽

EUV光罩或曝光機的反射鏡，使用將鉬與矽的薄層以約7 nm的週期交替堆疊約40對的多層膜。其厚度經過設計，使在各界面稍微反射的光相位一致，因此能將13.5 nm的光反射約70%。EUV會被所有物質強烈吸收，所以需要的不是透鏡而是反射光學系統。表面以釕等保護層覆蓋。