微影
以電腦同時最佳化曝光機的照明形狀與光罩圖案，藉此提高解析度的技術是下列何者？
- ASMO（光源光罩最佳化）
- BCMP
- CALD
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正確答案：A. SMO（光源光罩最佳化）
SMO（Source Mask Optimization）是以電腦一併最佳化曝光機的照明形狀（光瞳面上的光源分布）與包含OPC在內的光罩圖案，藉此擴大製程窗口的技術。此外，從晶圓上想要的形狀反推光罩，產生自由曲線圖案的ILT（逆向微影技術），隨著多束描繪能夠描繪曲線，也開始被使用。由於運算量龐大，會以GPU等來加速。
- A. 正確。同時最佳化照明與光罩。
- B. CMP是以研磨進行平坦化的製程。
- C. ALD是逐一原子層成膜的沉積技術。