フォトマスク(レチクル)란?
ふぉとますく
回路のパターンを描いた露光用の原版。石英ガラスの基板に遮光膜のパターンを形成する(EUVでは反射型)。縮小投影の露光装置ではウエハ上の4倍の大きさでつくる。
일본어 명칭: フォトマスク(レチクル)
분야: 포토리소그래피
관련 용어
開口数(NA) 反射防止膜(BARC) 液浸露光 位相シフトマスク 焦点深度(DOF) 化学増幅型レジスト ArFエキシマレーザー EUV露光 High-NA EUV OPC(光学近接効果補正)
ふぉとますく
回路のパターンを描いた露光用の原版。石英ガラスの基板に遮光膜のパターンを形成する(EUVでは反射型)。縮小投影の露光装置ではウエハ上の4倍の大きさでつくる。
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開口数(NA) 反射防止膜(BARC) 液浸露光 位相シフトマスク 焦点深度(DOF) 化学増幅型レジスト ArFエキシマレーザー EUV露光 High-NA EUV OPC(光学近接効果補正)