隔著一定間隔張設在光罩上方的薄膜。可防止異物直接附著在光罩面上,附著在護膜上的異物因焦點不對而不易被轉印。
日文名稱: ペリクル
這個名詞所屬的領域: 微影
化學放大型光阻 正型光阻 光阻 光罩(Reticle) 多重圖案化 抗反射底層膜(BARC) 奈米壓印微影 相位移光罩 浸潤式微影 掃描式曝光機
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