使用波長13.5 nm極紫外光的曝光技術。採用反射式光學系統與真空環境。
日文名稱: EUV露光
這個名詞所屬的領域: 微影
化學放大型光阻 正型光阻 光阻 光罩(Reticle) 光罩護膜 多重圖案化 抗反射底層膜(BARC) 奈米壓印微影 相位移光罩 浸潤式微影
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