ArF曝光用的光罩基板所使用的材料為下列何者？

正確答案：A. 合成石英玻璃

ArF曝光（193 nm）的光罩基板使用對短波長光透光性佳、熱膨脹小的合成石英玻璃，並在其上以鉻遮光膜或相移膜形成圖案。鈉鈣玻璃會吸收深紫外光，熱膨脹也大，因此無法使用。EUV因為沒有可使光穿透的材料，所以採用反射式光罩，在熱膨脹幾乎為零的低熱膨脹玻璃上形成多層膜。