プロセス材料(ガス・薬液)

フォトレジストの現像に一般的に使われる水溶液はどれか。

  1. ATMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)水溶液
  2. B塩酸
  3. Cフッ酸
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正解：A. TMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)水溶液

ポジ型レジストの現像には、TMAHの2.38%水溶液が標準的に使われます。露光によってアルカリに溶けやすくなった部分が溶け、パターンが現れます。

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