液浸露光とは
えきしんろこう
レンズとウエハの間を水で満たして露光する方法。開口数を1以上にでき、ArFエキシマレーザーでより細かいパターンを形成できる。
この用語の分野: リソグラフィ
えきしんろこう
レンズとウエハの間を水で満たして露光する方法。開口数を1以上にでき、ArFエキシマレーザーでより細かいパターンを形成できる。
この用語の分野: リソグラフィ
そのため液浸露光では、線の向きに合わせてTE偏光になるよう制御した偏光照明が使われます。
開口数(NA)が非常に大きい液浸露光で、光の偏光を考慮する必要が出てくる理由として正しいものはどれか。液浸露光では、投影レンズとウエハの間の約1 mmのすき間を、空気(屈折率約1)より屈折率の高い超純水(193 nmで約1.44)で満たします。
ArF液浸露光の説明として正しいものはどれか。液浸露光では、レンズとウエハの間の水がレジストに触れるため、レジストの成分が水に溶け出したり、水がレジストにしみ込んだりするおそれがあります。
ArF液浸露光で、フォトレジストの上に塗り、液浸の水とレジストが直接触れないようにする膜はどれか。開口数(NA) 超純水 フォトレジスト EUV露光 位相シフトマスク ArFエキシマレーザー オーバーレイ(重ね合わせ精度) OPC(光学近接効果補正) 化学増幅型レジスト 焦点深度(DOF)