ラインエッジラフネス(LER)とは
らいんえっじらふねす
微細なレジストのパターンの側面に生じる、ナノメートル単位の凹凸。線幅のばらつき(LWR)の原因となり、トランジスタの特性のばらつきにつながる。
この用語の分野: リソグラフィ
解説の中の「ラインエッジラフネス(LER)」
LERは、パターンの側面のでこぼこの大きさ(通常は3σで表す)を表す指標で、線幅のばらつきとして表したものはLWRと呼びます。
微細なレジストパターンの側面に生じる、ナノメートル単位の凹凸を表す指標はどれか。これがストカスティクスで、パターンの欠け・つながり、LER、小さな穴の開かない不良などの原因になります。
EUV露光で問題になる確率的なゆらぎ(ストカスティクス)の主な原因として正しいものはどれか。ただしピッチ(繰り返しの間隔)は細くならず、削る量のばらつきやLERがそのまま寸法のばらつきになるため、制御が重要です。
露光でつくったレジストのパターンを、プラズマで少しずつ細らせて、露光の限界より細い線をつくる手法はどれか。
「ラインエッジラフネス(LER)」が出てくる問題(3問)
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