イオン注入のマスクとしてフォトレジストを使うときに注意すべき点はどれか。

正解：C. イオンがレジストを突き抜けないよう、注入エネルギーに対して十分な厚さが必要である

レジストが薄すぎると、高エネルギーのイオンが突き抜けてマスクした部分にも注入されてしまいます。そのため注入エネルギーとイオン種に応じた厚さが必要です。高ドーズの注入ではレジストの表面が硬化して除去しにくくなるため、アッシングの条件にも注意が必要です。