化学増幅型フォトレジストの主な構成要素の組み合わせとして正しいものはどれか。

正解：A. ベース樹脂、光酸発生剤(PAG)、溶剤

化学増幅型レジストは、現像液への溶けやすさが変わるベース樹脂、露光で酸を発生する光酸発生剤、塗布のための溶剤などからなります。酸の拡散を調整するクエンチャーなどの添加剤も含まれます。