TMAHとは
てぃーえむえーえいち
水酸化テトラメチルアンモニウム。金属イオンを含まない有機アルカリで、フォトレジストの現像液に使われる。皮膚からの吸収による中毒に注意が必要。
この用語の分野: プロセス材料(ガス・薬液)
てぃーえむえーえいち
水酸化テトラメチルアンモニウム。金属イオンを含まない有機アルカリで、フォトレジストの現像液に使われる。皮膚からの吸収による中毒に注意が必要。
この用語の分野: プロセス材料(ガス・薬液)
TMAHは金属を含まない有機アルカリなので、金属汚染の心配がなく、半導体用の現像液として使われています。
半導体の現像液に、水酸化ナトリウムなどではなくTMAHのような有機アルカリが使われる主な理由はどれか。TMAHは強いアルカリで皮膚を傷めるだけでなく、皮膚から吸収されたテトラメチルアンモニウムイオンが神経から筋肉への信号の伝達を妨げ、呼吸の停止などを起こすことがあります。
現像液に使われるTMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)の高濃度液が皮膚に付いた場合に特に危険とされる理由はどれか。i線用のノボラック樹脂系や、KrF・ArF用の化学増幅型が代表的で、アルカリ性の現像液(TMAH水溶液)で現像します。
ポジ型フォトレジストの説明として正しいものはどれか。しきい値電圧 ポジ型フォトレジスト フォトレジスト アルシン(AsH3) NF3(三フッ化窒素) シラン(SiH4) 超純水 特殊材料ガス プリカーサ(前駆体) ホスフィン(PH3)