關於持續開發中、用於EUV曝光的含金屬氧化物光阻，其優點下列何者正確？

正確答案：A. 對EUV光的吸收大，即使是薄膜，抗蝕刻性也高

含錫或鉿等金屬的光阻，對EUV光的吸收比有機光阻高出數倍，因此可用較少的曝光量就讓其反應，也有望減輕光子數起伏（隨機效應）的影響。其分子小、解析度也佳，且抗蝕刻性高，即使是厚度20 nm左右的薄膜也能作為光罩使用，更容易防止微細圖案倒塌。也在開發在真空中成膜的乾式光阻。