什麼是焦深(DOF)
能以可接受的品質轉印圖案的焦點範圍。加大數值孔徑雖可提高解析度,但焦深會變淺,因此晶圓的平坦化變得重要。
日文名稱: 焦点深度(DOF)
「焦深(DOF)」出現在1領域的1道練習題中(矽晶圓等)。
這個名詞所屬的領域: 微影
能以可接受的品質轉印圖案的焦點範圍。加大數值孔徑雖可提高解析度,但焦深會變淺,因此晶圓的平坦化變得重要。
日文名稱: 焦点深度(DOF)
「焦深(DOF)」出現在1領域的1道練習題中(矽晶圓等)。
這個名詞所屬的領域: 微影
正確答案:B. 因為曝光時必須使整個圖案落在焦深範圍內
曝光的圖案越微細,焦深就越淺,先進曝光只有100 nm左右。晶圓表面只要有些微凹凸,焦點就會偏移,圖案便會模糊。因此,每個曝光區域(如26×33 mm的曝光單元)的局部平坦度(SFQR)被管控在數十nm以下。曝光設備也會對每個曝光單元量測高度來對焦,但前提仍是晶圓本身具備平坦度。
曝光的圖案越微細,焦深就越淺,先進曝光只有100 nm左右。
矽晶圓需要高度平坦的主要原因,下列哪一項是正確的?化學放大型光阻 正型光阻 光阻 光罩(Reticle) 光罩護膜 多重圖案化 抗反射底層膜(BARC) 奈米壓印微影 相位移光罩 浸潤式微影