微影
關於雙重圖案化（多重圖案化）的說明，下列何者正確？
- A同時對2片晶圓進行曝光
- B將一次曝光無法解析的細間距圖案，分成多次曝光或加工來形成
- C只要塗佈兩層光阻就能讓解析度加倍
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正確答案：B. 將一次曝光無法解析的細間距圖案，分成多次曝光或加工來形成
雙重圖案化是將一次無法解析的細間距圖案，拆成間隔抽掉的兩組圖案，分別曝光、加工（LELE），或是利用在側壁成膜的間隔層（spacer）使線條數量加倍（SADP、SAQP）來形成圖案的技術。它突破了ArF浸潤式的極限（間距約80 nm），使微縮得以推進到20 nm級的間距，但製程步驟數、光罩數與成本都大幅增加，因此持續推動EUV曝光的導入。