將單次曝光無法解析之細微間距的圖案,分成多次曝光或加工來形成的技術。分成兩次者稱為雙重圖案化。
日文名稱: マルチパターニング
這個名詞所屬的領域: 微影
化學放大型光阻 正型光阻 光阻 光罩(Reticle) 光罩護膜 抗反射底層膜(BARC) 奈米壓印微影 相位移光罩 浸潤式微影 掃描式曝光機
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