EUV曝光中成為問題的機率性起伏（隨機效應，stochastics）的主要原因，下列何者正確？

正確答案：C. 因為EUV光每個光子的能量大，即使曝光量相同，光子數也較少

每個光子的能量與波長成反比，EUV（13.5 nm，約92 eV）約為ArF（193 nm，約6.4 eV）的14倍。若曝光量相同，照射到的光子數只有1/14，例如進入20 nm見方範圍內的光子只有數百至數千個左右，其數量在統計上會有約√N的變異。這就是隨機效應，會造成圖案缺損、橋接（相連）、LER，以及小孔無法開出等缺陷。增加曝光量可以改善，但產能會下降。