清洗、乾燥高深寬比的微細圖案時,因殘留在圖案間液體的表面張力,使圖案傾倒或黏在一起的不良。
日文名稱: パターン倒壊
這個名詞所屬的領域: CMP與清洗
兆聲波清洗 研磨液 研磨墊修整 原生氧化膜 氧化鈰(Ceria) 單晶圓清洗 普勒斯頓方程式 稀釋氫氟酸(DHF) 碟形凹陷 CMP(化學機械研磨)
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