EUV露光란?
いーゆーぶいろこう
波長13.5 nmの極端紫外光を使う露光技術。反射光学系と真空環境を用いる。
일본어 명칭: EUV露光
분야: 포토리소그래피
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관련 용어
開口数(NA) 反射防止膜(BARC) 液浸露光 位相シフトマスク 焦点深度(DOF) 化学増幅型レジスト ArFエキシマレーザー High-NA EUV OPC(光学近接効果補正) オーバーレイ(重ね合わせ精度)
いーゆーぶいろこう
波長13.5 nmの極端紫外光を使う露光技術。反射光学系と真空環境を用いる。
일본어 명칭: EUV露光
분야: 포토리소그래피
開口数(NA) 反射防止膜(BARC) 液浸露光 位相シフトマスク 焦点深度(DOF) 化学増幅型レジスト ArFエキシマレーザー High-NA EUV OPC(光学近接効果補正) オーバーレイ(重ね合わせ精度)