在透鏡與晶圓之間注滿水進行曝光的方法。可使數值孔徑達到1以上,利用ArF準分子雷射即可形成更細微的圖案。
日文名稱: 液浸露光
這個名詞所屬的領域: 微影
化學放大型光阻 正型光阻 光阻 光罩(Reticle) 光罩護膜 多重圖案化 抗反射底層膜(BARC) 奈米壓印微影 相位移光罩 掃描式曝光機
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