シラン(SiH4)とは

しらん

シリコンと水素の化合物のガス。ポリシリコンやシリコン酸化膜・窒化膜のCVDの原料に使われる。空気中で自然発火するため、厳重に管理される。

この用語の分野: プロセス材料(ガス・薬液)

解説の中の「シラン(SiH4)」

「シラン(SiH4)」が出てくる問題(13問)

  1. シランを熱分解してシリコン膜を堆積するとき、成膜温度を低くした場合にできる膜はどれか。
  2. CVDなどの原料として使われるシラン(SiH4)の取り扱い上の主な危険性はどれか。
  3. モノシラン(SiH4)より低い温度でシリコン膜を成膜できる原料ガスとして使われるものはどれか。
  4. シランとともにCVDでシリコン酸化膜や酸窒化膜をつくるとき、酸化剤として使われることのあるガスはどれか。
  5. シリコンのエピタキシャル成長で原料として使われるガスはどれか。
  6. トリクロロシランを使ったシリコンのエピタキシャル成長の一般的な成長温度に最も近いものはどれか。
  7. SiCのエピタキシャル成長(CVD)の一般的な成長温度に最も近いものはどれか。
  8. LPCVDでポリシリコン膜を成膜するときに一般的に使われる原料ガスはどれか。
  9. シリコン酸化膜のCVDで原料として広く使われる、液体の有機シリコン化合物はどれか。
  10. タングステンのCVDで原料として使われるガスはどれか。
  11. 熱CVDでシリコン窒化膜(Si3N4)を成膜するときに使われる原料ガスの組み合わせとして正しいものはどれか。
  12. プラズマCVDで成膜したシリコン窒化膜の特徴として正しいものはどれか。
  13. SiGeのエピタキシャル成長で、ゲルマニウムの原料として使われるガスはどれか。

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