成膜(CVD・PVD)

熱CVDでシリコン窒化膜(Si3N4)を成膜するときに使われる原料ガスの組み合わせとして正しいものはどれか。

  1. Aジクロロシランとアンモニア
  2. Bシランと酸素
  3. C六フッ化タングステンと水素
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正解：A. ジクロロシランとアンモニア

LPCVDによるシリコン窒化膜は、ジクロロシラン(SiH2Cl2)とアンモニア(NH3)を700〜800 ℃程度で反応させてつくるのが一般的です。シランと酸素の組み合わせは酸化膜、WF6と水素はタングステンの成膜に使われます。

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