プロセス材料(ガス・薬液)
モノシラン(SiH4)より低い温度でシリコン膜を成膜できる原料ガスとして使われるものはどれか。
- Aジシラン(Si2H6)
- B四フッ化炭素(CF4)
- C窒素(N2)
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正解：A. ジシラン(Si2H6)
ジシランはSi-Si結合をもち、モノシランより分解しやすいため、より低い温度でシリコンやシリコン系の膜を成膜できます。低温でのエピタキシャル成長やアモルファスシリコンの成膜などに使われます。
- A. 正しい。モノシランより分解しやすく、低温で成膜できます。
- B. CF4はエッチングなどに使うガスで、シリコンの原料ではありません。
- C. 窒素はシリコンを含まず、原料になりません。