エピタキシャル成長

シリコンのエピタキシャル成長で原料として使われるガスはどれか。

  1. Aアルゴンだけ
  2. Bトリクロロシラン(SiHCl3)やジクロロシラン(SiH2Cl2)
  3. C酸素
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正解：B. トリクロロシラン(SiHCl3)やジクロロシラン(SiH2Cl2)

シリコンのエピタキシャル成長には、トリクロロシラン、ジクロロシラン、シランなどのシリコンを含むガスを水素と一緒に使います。高温で分解・還元されてシリコンが基板上に析出します。ドーピングにはホスフィンやジボランなどを加えます。

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