成膜(CVD・PVD)

タングステンのCVDで原料として使われるガスはどれか。

  1. ATEOS
  2. Bシラン(SiH4)
  3. C六フッ化タングステン(WF6)
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正解：C. 六フッ化タングステン(WF6)

タングステンのCVDでは、WF6を水素やシランで還元してタングステン膜を堆積させます。段差被覆性がよく、コンタクトホールなどの細い穴を埋め込めるため、コンタクトプラグの形成に使われてきました。

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