プロセス材料(ガス・薬液)

SiGeのエピタキシャル成長で、ゲルマニウムの原料として使われるガスはどれか。

  1. Aアンモニア(NH3)
  2. Bゲルマン(GeH4)
  3. Cアルシン(AsH3)
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正解：B. ゲルマン(GeH4)

SiGeの成長では、シリコンの原料(シランやジクロロシランなど)とともに、ゲルマニウムの原料としてゲルマン(GeH4)を流します。両者の流量の比でGeの組成を制御します。ゲルマンも水素化物で、毒性と可燃性があるため注意して扱います。

  • A. アンモニアは窒素の原料で、窒化膜などに使います。
  • B. 正しい。ゲルマンがゲルマニウムの原料です。
  • C. アルシンはヒ素の原料で、n型のドーパントなどに使います。
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