プロセス材料(ガス・薬液)
シランとともにCVDでシリコン酸化膜や酸窒化膜をつくるとき、酸化剤として使われることのあるガスはどれか。
- Aアルゴン(Ar)
- Bヘリウム(He)
- C亜酸化窒素(N2O)
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正解：C. 亜酸化窒素(N2O)
亜酸化窒素(N2O)は、プラズマCVDなどでシランと反応させてシリコン酸化膜をつくる酸化剤として使われます。酸素より穏やかに反応するため気相での粒子の発生を抑えやすく、条件によっては膜に窒素を取り込んだ酸窒化膜もつくれます。
- A. アルゴンは不活性で、酸化剤にはなりません。
- B. ヘリウムは不活性で、酸化剤にはなりません。
- C. 正しい。シランと組み合わせる酸化剤として使われます。