ホスフィン(PH3)とは
ほすふぃん
リンと水素の化合物のガス。シリコンにn型の不純物(リン)を導入する原料に使われる。毒性が非常に強い。
この用語の分野: プロセス材料(ガス・薬液)
ほすふぃん
リンと水素の化合物のガス。シリコンにn型の不純物(リン)を導入する原料に使われる。毒性が非常に強い。
この用語の分野: プロセス材料(ガス・薬液)
ホスフィンやアルシンは、ごく低い濃度でも人体に有害な極めて毒性の強いガスです。
n型不純物の導入に使われるホスフィン(PH3)やアルシン(AsH3)の特徴として正しいものはどれか。ドーピングにはホスフィンやジボランを加えます。
シリコンのエピタキシャル成長で原料として使われるガスはどれか。インサイチュドーピングでは、成長と同時にドーピングガス(ホスフィン、ジボランなど)を流して不純物を取り込むため、イオン注入のような結晶の損傷や活性化のための高温アニールが不要です。
エピタキシャル成長中にドーピングガスを流し、成長と同時に不純物を添加することを何と呼ぶか。アルシン(AsH3) イオン注入 エピタキシャル成長 除害装置 シラン(SiH4) アニール SiGe(シリコンゲルマニウム) 熱拡散 LPCVD(減圧CVD) NF3(三フッ化窒素)