空乏層とは
くうぼうそう
PN接合の境界付近にできる、キャリアがほとんど存在しない領域。逆バイアスで広がる。
この用語の分野: PN接合・ダイオード
くうぼうそう
PN接合の境界付近にできる、キャリアがほとんど存在しない領域。逆バイアスで広がる。
この用語の分野: PN接合・ダイオード
逆方向バイアスでは外部電圧が内蔵電位と同じ向きに加わり、キャリアがさらに接合から引き離されるため、空乏層は広がります。
PN接合に加える逆方向バイアス電圧を大きくすると、空乏層の幅はどうなるか。空乏層の両側では、イオン化した不純物の電荷の量が等しくなります(NA·xp = ND·xn)。
p側の不純物濃度がn側よりはるかに高いPN接合(p+n接合)で、空乏層はどのように広がるか。片側階段接合の空乏層幅は W = √(2ε(Vbi + V)/qN) で、Vが十分大きければ√Vにほぼ比例します。
片側階段接合の空乏層の幅と逆バイアス電圧Vの関係として正しいものはどれか。(Vが内蔵電位より十分大きい場合)接合容量(空乏層容量) しきい値電圧 内蔵電位 開口数(NA) なだれ降伏 パンチスルー FinFET アクセプタ 暗電流 フォトダイオード