什麼是施體
對半導體提供電子的雜質。對矽而言，是磷(P)、砷(As)等 V 族元素，用來形成 n 型半導體。
日文名稱: ドナー
「施體」出現在1領域的2道練習題中（矽晶圓等）。
這個名詞所屬的領域: 半導體物性
練習施體的題目
將CZ矽在450℃附近熱處理時，氧原子會聚集並作為施體作用，使晶圓的電阻率改變。這稱為什麼？
- A吸附位置
- B熱施體
- C深受體
解析中的「施體」
將含有間隙氧的CZ矽在350〜500 ℃進行熱處理，會形成由數個氧原子聚集而成的集合體，作為釋放電子的施體發揮作用(熱施體，thermal donor)。
將CZ矽在450℃附近熱處理時，氧原子會聚集並作為施體作用，使晶圓的電阻率改變。這稱為什麼？添加量極微，作為施體的影響幾乎不成問題。
在CZ晶體成長中微量添加氮(氮摻雜)，其已知的效果是哪一項？