半導體物性

關於矽中磷所形成的施體能階在能隙內的位置,下列何者正確?

  1. A非常靠近導帶底端(低於導帶約0.045 eV)
  2. B非常靠近價電帶頂端
  3. C大致位於能隙中央
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正確答案:A. 非常靠近導帶底端(低於導帶約0.045 eV)

磷的施體能階距導帶底端僅約0.045 eV,非常淺,即使是室溫的熱能(約0.026 eV),幾乎全部都會離子化而供應電子。砷約為0.054 eV,硼的受體能階距價電帶約0.045 eV。淺能階因母體介電常數而使束縛減弱,因此可用氫原子模型估算。能隙中央附近的深能階則來自金等雜質,會成為複合中心。

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