什麼是原生氧化膜
矽接觸空氣或水而自然形成、厚度約1 nm的薄氧化膜。由於會使接觸電阻增加並妨礙磊晶成長，因此在需要的製程之前才將其去除。
日文名稱: 自然酸化膜
這個名詞所屬的領域: CMP與清洗
相關名詞
兆聲波清洗 研磨液 研磨墊修整 氧化鈰(Ceria) 單晶圓清洗 普勒斯頓方程式 稀釋氫氟酸(DHF) 圖案倒塌 碟形凹陷 CMP(化學機械研磨)
矽接觸空氣或水而自然形成、厚度約1 nm的薄氧化膜。由於會使接觸電阻增加並妨礙磊晶成長，因此在需要的製程之前才將其去除。
日文名稱: 自然酸化膜
這個名詞所屬的領域: CMP與清洗
兆聲波清洗 研磨液 研磨墊修整 氧化鈰(Ceria) 單晶圓清洗 普勒斯頓方程式 稀釋氫氟酸(DHF) 圖案倒塌 碟形凹陷 CMP(化學機械研磨)