CMP與清洗
RCA清洗中所使用的SC-1(氨水與雙氧水的混合液)之主要目的為下列何者?
- A去除金屬汙染
- B去除微粒與有機物
- C去除原生氧化膜
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正確答案:B. 去除微粒與有機物
SC-1(NH4OH:H2O2:H2O,例如1:1:5,約70 ℃)一邊以雙氧水氧化表面,一邊以氨水將該氧化膜以每分鐘約0.1~1 nm的速度緩慢溶解,藉此將微粒自下方托起而去除。在鹼性環境中,粒子與表面都帶負電而相互排斥,因此也不易再度附著。對去除有機物也有效。去除金屬汙染使用SC-2,去除原生氧化膜則使用稀釋氫氟酸。