什麼是SC-1(APM)

氨水、雙氧水與水的混合液。用於RCA清洗的第一步，在輕微蝕刻表面的同時去除微粒與有機物。

日文名稱: SC-1(APM)

「SC-1(APM)」出現在1領域的7道練習題中（CMP與清洗等）。

這個名詞所屬的領域: CMP與清洗

練習SC-1(APM)的題目

RCA清洗中所使用的SC-1（氨水與雙氧水的混合液）之主要目的為下列何者？

  1. A去除金屬汙染
  2. B去除微粒與有機物
  3. C去除原生氧化膜
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正確答案：B. 去除微粒與有機物

SC-1（NH4OH:H2O2:H2O，例如1:1:5，約70 ℃）一邊以雙氧水氧化表面，一邊以氨水將該氧化膜以每分鐘約0.1～1 nm的速度緩慢溶解，藉此將微粒自下方托起而去除。在鹼性環境中，粒子與表面都帶負電而相互排斥，因此也不易再度附著。對去除有機物也有效。去除金屬汙染使用SC-2，去除原生氧化膜則使用稀釋氫氟酸。

在SC-1這類鹼性清洗液中，一度脫離的微粒不易再度附著，其原因下列何者正確？

  1. A因為清洗液的黏度非常高
  2. B因為晶圓表面與粒子帶有相同符號的電荷而相互排斥
  3. C因為粒子溶解於清洗液中而消失
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正確答案：B. 因為晶圓表面與粒子帶有相同符號的電荷而相互排斥

在鹼性液體中，矽表面與許多粒子（二氧化矽、氮化物等）的表面都帶負電（界面電位為負）。同符號的電荷會相互排斥，因此離開表面的粒子不易再度附著。相反地，在酸性液體中，界面電位的符號會因粒子而異，容易發生再附著。這是SC-1在去除微粒上有效的原因之一。

解析中的「SC-1(APM)」

出現「SC-1(APM)」的題目（7題）

  1. RCA清洗中所使用的SC-1（氨水與雙氧水的混合液）之主要目的為下列何者？
  2. 在SC-1這類鹼性清洗液中，一度脫離的微粒不易再度附著，其原因下列何者正確？
  3. 下列關於標準RCA清洗中SC-1與SC-2的順序與目的之組合，何者正確？
  4. 在SC-1（氨水與雙氧水的混合液）中，雙氧水所扮演的角色下列何者正確？
  5. 使用稀釋氫氟酸（DHF）進行清洗的主要目的為下列何者？
  6. 在清洗液中施加MHz頻段的超音波，以去除晶圓表面微小微粒的清洗方法為下列何者？
  7. 下列關於清洗所要去除之晶圓表面汙染種類的組合，何者正確？

相關名詞

SC-2(HPM) 稀釋氫氟酸(DHF) 原生氧化膜 RCA清洗 超純水 磊晶成長 矽化物 兆聲波清洗 光阻 SPM(硫酸雙氧水混合液)

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