什麼是SC-2(HPM)

練習SC-2(HPM)的題目

解析中的「SC-2(HPM)」

• RCA清洗是1970年由RCA公司的Kern等人發表的方法，基本順序是先以鹼性的SC-1去除微粒與有機物，接著以酸性的SC-2（HCl:H2O2:H2O）將SC-1中容易附著的金屬汙染轉變為氯化物溶解而去除。

  下列關於標準RCA清洗中SC-1與SC-2的順序與目的之組合，何者正確？

• 去除金屬汙染使用SC-2，去除原生氧化膜則使用稀釋氫氟酸。

  RCA清洗中所使用的SC-1（氨水與雙氧水的混合液）之主要目的為下列何者？

• 去除有機物與微粒使用SC-1，去除金屬汙染則使用SC-2。

  使用稀釋氫氟酸（DHF）進行清洗的主要目的為下列何者？

• 針對各者組合適合的藥液（SC-1、SC-2、SPM、稀釋氫氟酸等）與物理作用力（刷洗、兆聲波）加以去除，同時也要求不損傷材料。

  下列關於清洗所要去除之晶圓表面汙染種類的組合，何者正確？

出現「SC-2(HPM)」的題目（4題）

1. 下列關於標準RCA清洗中SC-1與SC-2的順序與目的之組合，何者正確？
2. RCA清洗中所使用的SC-1（氨水與雙氧水的混合液）之主要目的為下列何者？
3. 使用稀釋氫氟酸（DHF）進行清洗的主要目的為下列何者？
4. 下列關於清洗所要去除之晶圓表面汙染種類的組合，何者正確？

相關名詞

SC-1(APM) 稀釋氫氟酸(DHF) 原生氧化膜 RCA清洗 超純水 磊晶成長 矽化物 光阻 SPM(硫酸雙氧水混合液) 兆聲波清洗