プロセス材料(ガス・薬液)

p型不純物(ホウ素)の導入に使われる原料ガスとして正しいものはどれか。

  1. Aジボラン(B2H6)や三フッ化ホウ素(BF3)
  2. Bホスフィン(PH3)
  3. Cアルシン(AsH3)
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正解：A. ジボラン(B2H6)や三フッ化ホウ素(BF3)

ホウ素の導入には、ジボランや三フッ化ホウ素などのホウ素を含むガスが使われます。ホスフィンやアルシンは、n型不純物であるリンやヒ素の原料です。いずれも毒性や反応性が高く、厳重に管理されます。

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