InP(リン化インジウム)とは
りんかいんじうむ
インジウムとリンからなる化合物半導体。InGaAsなどを格子整合させて成長させる基板として、光ファイバ通信用のレーザーや受光素子、高速のトランジスタに使われる。
この用語の分野: 化合物半導体
りんかいんじうむ
インジウムとリンからなる化合物半導体。InGaAsなどを格子整合させて成長させる基板として、光ファイバ通信用のレーザーや受光素子、高速のトランジスタに使われる。
この用語の分野: 化合物半導体
InP基板上につくるInGaAsPなどは、組成を変えてバンドギャップを調整でき、光ファイバの損失が小さい1.3 µm帯(分散が小さい)や1.55 µm帯(損失が約0.2 dB/kmと最小)の光を発光・受光できます。
InP(リン化インジウム)系の化合物半導体が主に使われる用途はどれか。GaAs系(InGaP/GaAs)HBTは単一電源で動き効率が高いため、スマートフォンの送信用パワーアンプの主流で、InP系HBTは数百GHzのfTを生かして100 Gb/s超の光通信の電子回路や、テラヘルツ帯の研究に使われています。
InPやGaAsを使ったHBT(ヘテロ接合バイポーラトランジスタ)が用いられる用途の例として正しいものはどれか。In0.53Ga0.47Asのように組成を調整すると、InGaAsの格子定数をInP(約0.587 nm)とほぼ一致させられます(格子整合)。
InP基板の上に、組成を調整したInGaAsを格子整合させて成長させる利点として正しいものはどれか。GaAs(ガリウムヒ素) GaN(窒化ガリウム) バンドギャップ 間接遷移型 SiC(炭化ケイ素) フォトダイオード HBT(ヘテロ接合バイポーラトランジスタ) HEMT(高電子移動度トランジスタ) 移動度 直接遷移型