成膜(CVD・PVD)

LPCVDでポリシリコン膜を成膜しながら、リンなどの不純物を含むガスを同時に流して導電性の膜をつくることを何と呼ぶか。

  1. Aその場(in-situ)ドーピング
  2. Bイオン注入
  3. C熱酸化
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正解:A. その場(in-situ)ドーピング

成膜中にドーパントのガスを一緒に流し、膜をつくると同時に不純物を取り込ませる方法をその場(in-situ)ドーピングといいます。後からイオン注入や拡散で不純物を入れる必要がなく、深い溝の中の膜にも均一に不純物を入れやすい利点があります。

  • A. 正しい。成膜と同時に不純物を取り込ませます。
  • B. イオン注入は成膜後に不純物を打ち込む方法です。
  • C. 熱酸化は酸化膜をつくる工程です。
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