什麼是InP(磷化銦)
由銦與磷構成的化合物半導體。作為使 InGaAs 等晶格匹配成長的基板,用於光纖通訊用的雷射與受光元件,以及高速電晶體。
日文名稱: InP(リン化インジウム)
「InP(磷化銦)」出現在3領域的11道練習題中(化合物半導體, 半導體物性, 影像感測器與光電元件等)。
這個名詞所屬的領域: 化合物半導體
由銦與磷構成的化合物半導體。作為使 InGaAs 等晶格匹配成長的基板,用於光纖通訊用的雷射與受光元件,以及高速電晶體。
日文名稱: InP(リン化インジウム)
「InP(磷化銦)」出現在3領域的11道練習題中(化合物半導體, 半導體物性, 影像感測器與光電元件等)。
這個名詞所屬的領域: 化合物半導體
在InP基板上製作的InGaAsP等可藉由改變組成來調整能隙,能對光纖損耗小的1.3 µm波段(色散小)與1.55 µm波段(損耗約0.2 dB/km,為最小)的光進行發光與受光。
下列何者是InP(磷化銦)系化合物半導體主要的用途?GaAs系(InGaP/GaAs)HBT可用單一電源運作且效率高,是智慧型手機傳送用功率放大器的主流;InP系HBT則運用數百GHz的fT,用於超過100 Gb/s的光通訊電子電路與太赫茲頻段的研究。
下列何者是使用InP或GaAs的HBT(異質接面雙極性電晶體)所用於的應用範例?像In0.53Ga0.47As這樣調整組成後,可使InGaAs的晶格常數與InP(約0.587 nm)幾乎一致(晶格匹配)。
在InP基板上使調整過組成的InGaAs晶格匹配地成長,下列何者是其正確的優點?所以LED和雷射使用GaAs、InP、GaN等直接躍遷型。
關於矽的能帶結構類型,下列何者正確?矽光子學中將InP等貼合作為光源,就是這個緣故。
在矽這類間接躍遷型半導體中,電子與電洞複合而發光的機率低,其原因下列何者正確?GaAs(砷化鎵) GaN(氮化鎵) 能隙 SiC(碳化矽) HBT(異質接面雙載子電晶體) HEMT(高電子遷移率電晶體) 遷移率 貫穿(Punch-through) CMOS 混晶半導體