シリコンフォトニクスが、半導体の工場での量産に向いているといわれる主な理由はどれか。

正解：A. CMOSと同じシリコンの材料と、大口径ウエハ、リソグラフィ、エッチングなどの装置や工程を使えるから

シリコンフォトニクスでは、SOIウエハの上にリソグラフィとドライエッチングで導波路をつくり、イオン注入で変調器のpn接合を、選択エピタキシャル成長でGeの受光器をつくり、金属配線で電極をつなぎます。いずれもCMOSの工場で確立された材料と工程で、200 mmや300 mmのウエハで高い精度と再現性をもって量産できます。導波路の幅は数百 nm程度なので、最先端のロジックほどの微細化は不要で、DUV露光で十分です。一方、InPなどの化合物半導体は汚染の心配があり、一般にCMOSの工場とは分けて扱います。