矽光子被認為適合在半導體工廠量產的主要理由為何？

正確答案：A. 因為可使用與CMOS相同的矽材料，以及大口徑晶圓、微影、蝕刻等設備與製程

矽光子是在SOI晶圓上以微影與乾式蝕刻製作波導，以離子佈植製作調變器的pn接面，以選擇性磊晶成長製作Ge光偵測器，再以金屬配線連接電極。這些都是在CMOS工廠已確立的材料與製程，能以200 mm或300 mm晶圓高精度、高重現性地量產。波導寬度約數百 nm，不需要最先進邏輯那樣的微縮，DUV曝光就已足夠。另一方面，InP等化合物半導體有汙染疑慮，一般與CMOS工廠分開處理。