ドーズ量とは
どーずりょう
イオン注入で、単位面積あたりに打ち込むイオンの数。cm⁻²の単位で表し、ビーム電流と注入時間で決まる。
この用語の分野: イオン注入
どーずりょう
イオン注入で、単位面積あたりに打ち込むイオンの数。cm⁻²の単位で表し、ビーム電流と注入時間で決まる。
この用語の分野: イオン注入
ドーズ量は、ウエハの単位面積あたりに注入したイオンの数で、ions/cm²(またはatoms/cm²)で表します。
イオン注入のドーズ量を表す単位として正しいものはどれか。ドーズ量が多いほど注入層の不純物の総量が増えてキャリアも増えるため、シート抵抗は下がります。
同じアニール条件で、イオン注入のドーズ量を増やすと注入層のシート抵抗は一般にどうなるか。イオン注入装置は、ドーズ量とエネルギーの範囲によって、中電流(しきい値調整やハロー注入など、10¹¹〜10¹⁴ cm⁻²)、高電流(ソース・ドレインなどの高ドーズ)、高エネルギー(深いウェルなど)に分けられます。
MOSFETのしきい値電圧の調整やウェルのような、中程度のドーズ量の注入に主に使われるイオン注入装置はどれか。イオン注入 固溶度 しきい値電圧 ファラデーカップ アニール 移動度 ハロー注入(ポケット注入) 熱拡散 過渡増速拡散(TED) シャドウイング