什麼是TEOS

四乙氧基矽烷的簡稱。是廣泛用作矽氧化膜CVD原料的液態有機矽化合物。可得到階梯覆蓋率良好的氧化膜。

日文名稱: TEOS

「TEOS」出現在2領域的3道練習題中(薄膜沉積(CVD與PVD), 製程材料(氣體與藥液)等)。

這個名詞所屬的領域: 薄膜沉積(CVD與PVD)

練習TEOS的題目

將常溫下為液體的原料(TEOS等)以氣體形式供應給CVD設備的方法,下列何者正確?

  1. A讓載氣通過液體以帶出蒸氣(起泡),或以氣化器將液體氣化後供應
  2. B將液體固化並磨成粉末後放入
  3. C將液體直接倒入反應爐
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正確答案:A. 讓載氣通過液體以帶出蒸氣(起泡),或以氣化器將液體氣化後供應

液體原料是以氣體形式送入反應爐,方法有二:一是將載氣吹入溫度受控的容器以帶出蒸氣的起泡,二是量測液體流量後以氣化器一次氣化。起泡容易因液溫變化而使供應量波動,氣化器方式則可更精密地控制。TEOS是沸點約168 ℃的液體,管線也要加熱,以免再度變回液體。若以液體狀態直接倒入,無法進行均勻的成膜。

解析中的「TEOS」

出現「TEOS」的題目(3題)

  1. 將常溫下為液體的原料(TEOS等)以氣體形式供應給CVD設備的方法,下列何者正確?
  2. 關於低壓CVD(LPCVD)的特徵,下列何者正確?
  3. 矽氧化膜的CVD中廣泛用作原料的液態有機矽化合物為下列何者?

相關名詞

CVD(化學氣相沉積) 階梯覆蓋率 LPCVD(低壓化學氣相沉積) 矽烷(SiH4) 反應式濺鍍 真空蒸鍍 區域選擇性沉積 旋轉塗佈 電鍍 磁控濺鍍

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