超純水とは

解説の中の「超純水」

• 水に含まれるイオンが少ないほど電気が流れにくくなるため、超純水の純度は比抵抗で管理されます。

  半導体製造で使う超純水の純度管理に使われる代表的な指標はどれか。

• 超純水は、薬液による洗浄の後のすすぎをはじめ、ウエハの洗浄工程で大量に使われます。

  半導体工場で超純水が最も大量に使われる用途はどれか。

• 液浸露光では、投影レンズとウエハの間の約1 mmのすき間を、空気(屈折率約1)より屈折率の高い超純水(193 nmで約1.44)で満たします。

  ArF液浸露光の説明として正しいものはどれか。

「超純水」が出てくる問題(9問)

1. オゾンを溶かした超純水(オゾン水)を洗浄に用いる主な目的はどれか。
2. 半導体製造で使う超純水の純度管理に使われる代表的な指標はどれか。
3. 半導体工場で超純水が最も大量に使われる用途はどれか。
4. ArF液浸露光の説明として正しいものはどれか。
5. 標準的なRCA洗浄におけるSC-1とSC-2の順序と目的の組み合わせとして正しいものはどれか。
6. 近年の洗浄工程で、薬液を希釈して使ったり、機能水を使ったりする主な目的はどれか。
7. LSIの製造工程全体の中で、洗浄工程の回数についての説明として正しいものはどれか。
8. 半導体工場で、大量に使う水について行われている環境面の取り組みとして適切なものはどれか。
9. 半導体工場のエネルギー消費で大きな割合を占める設備として正しいものはどれか。

関連する用語

希フッ酸(DHF) SPM(硫酸過水) 液浸露光 開口数(NA) RCA洗浄 SC-1(APM) SC-2(HPM) イオン注入 CMP アッシング