製程材料(氣體與藥液)

在ArF浸潤式曝光中,塗佈於光阻之上、使浸潤用的水與光阻不直接接觸的薄膜為下列何者?

  1. ABARC(抗反射膜)
  2. B光罩護膜(pellicle)
  3. C頂層塗佈(topcoat)
查看答案與解析

正確答案:C. 頂層塗佈(topcoat)

在浸潤式曝光中,鏡頭與晶圓之間的水會接觸光阻,因此光酸產生劑等可能溶入水中而汙染鏡頭,或水滲入而造成圖案缺陷。頂層塗佈是塗在光阻之上的保護膜,可防止這些情況,並使表面具疏水性,讓水在載台高速移動時不致殘留。BARC是鋪在光阻下方的抗反射膜,光罩護膜是保護光罩的薄膜。

練習這個領域 前往領域頁面

製程材料(氣體與藥液)的其他題目

  1. 作為Low-k層間絕緣膜使用的代表性材料為下列何者?
  2. 廣泛用於熱處理爐的反應管或載放晶圓的治具,且純度高、耐熱性優異的材料為下列何者?
  3. 光阻顯影一般使用的水溶液為下列何者?
  4. 半導體的顯影液不使用氫氧化鈉等,而使用TMAH這類有機鹼,其主要理由為下列何者?
  5. 關於用於設備腔體清潔等的三氟化氯(ClF3)的特徵,下列何者正確?