關於ArF浸潤式曝光的說明，下列何者正確？

正確答案：C. 以水填滿投影透鏡與晶圓之間，藉此加大數值孔徑（NA）

浸潤式曝光是在投影透鏡與晶圓之間約1 mm的間隙中，填入折射率比空氣（折射率約1）更高的超純水（193 nm時約1.44）。由於 NA = n·sinθ，數值孔徑可以大於1（最大為1.35），即使波長同樣是193 nm，也能解析更細的圖案。約從2006年起導入量產，並開發出即使晶圓高速移動也能保持住水的噴嘴技術，以及水不易滲入的光阻表面層。