希フッ酸(DHF)とは
きふっさん
フッ酸を水で薄めた洗浄液。シリコン表面の自然酸化膜を除去し、表面を水素で終端された疎水性の状態にする。
この用語の分野: CMP・洗浄
きふっさん
フッ酸を水で薄めた洗浄液。シリコン表面の自然酸化膜を除去し、表面を水素で終端された疎水性の状態にする。
この用語の分野: CMP・洗浄
熱酸化膜は緻密で欠陥が少ないため、希フッ酸(例えば1%)でのエッチング速度が毎分数nm程度と遅くなります。
同じ希フッ酸でエッチングしたとき、熱酸化膜とCVDで成膜した酸化膜のエッチング速度の一般的な関係として正しいものはどれ…フッ酸はSiO2を溶かすため、0.5〜1%程度の希フッ酸で数十秒処理すると、シリコン表面の約1 nmの自然酸化膜を取り除けます。
希フッ酸(DHF)による洗浄の主な目的はどれか。希フッ酸で酸化膜を除去したシリコン表面は、Si-H結合で水素終端された状態になり、水をはじく疎水性になります。
希フッ酸で最後に洗浄したシリコン表面の状態として正しいものはどれか。SC-1(APM) SC-2(HPM) 自然酸化膜 RCA洗浄 超純水 SPM(硫酸過水) 熱酸化 CVD アニール シリサイド